EE Times Japan

エレクトロニクス技術を駆使した製品を設計・開発するエンジニアやマネージャー層を対象に、半導体・電子部品、ディスプレイ、ネットワーク、ソフトウエア、エネルギー、設計・解析ツールなどに関する技術情報や、業界の最新動向を提供するサイトです。特集記事に加え、各種技術解説やトップへのインタビュー、海外発のニュースなど、エレクトロニクス分野における最新かつ専門性の高い情報を発信します。 http://eetimes.jp/

印刷時のばらつき「ICの指紋」を利用  産業技術総合研究所(以下、産総研)フレキシブルエレクトロニクス研究センター 印刷デバイスチームの研究チーム長を務める吉田学氏らは2016年1月、製造時に生じる有機デバイス特有のばら...

土曜日開催も取りやめへ  CEATEC JAPAN実施協議会は2016年1月27日、2016年10月に開催する展示会「CEATEC JAPAN 2016」(シーテックジャパン 2016)を、CPS(サイバーフィジカルシス...

 サイプレス セミコンダクタは2016年1月、プログラマブルSoC(PSoC)の新シリーズ「PSoC 4Lシリーズ」を発表した。CapSense用回路ブロックを増やしてタッチ検出機能などの強化を図っている。  PSoC ...

青紫色レーザーで直接描画  東北大学多元物質科学研究所の准教授 渡辺明氏と助教 蔡金光氏のグループが開発した平面型マイクロスーパーキャパシター(電気二重層キャパシター)は、小型で低コスト、高エネルギー効率な青紫色半導体レ...

 パナソニックは2016年1月20日、京都大学の「Center of Innovation(COI)」と共同で、非接触で心拍間隔を計測する生体情報センシング技術の開発に成功したと発表した。同技術は、パナソニックのスペクト...

 産業技術総合研究所(以下、産総研)は2016年1月28日、シリコン光配線の先端を曲げて垂直方向に立体湾曲させる技術を開発したと発表した。曲げ半径は、数マイクロメートルと小さい点が特長。シリコン光回路のウエハー面に対し垂...

 物質・材料研究機構(NIMS)は、「nano tech 2016 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」(2016年1月27〜29日、東京ビッグサイト)において、MSS(Membrane-type Surface st...

 東京大学 大学院工学系研究科の教授を務める染谷隆夫氏らは、「nano tech 2016 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」(2016年1月27〜29日、東京ビッグサイト)において、体に直接貼り付けることが可能なフ...

 理化学研究所(理研)は、「nano tech 2016 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」(2016年1月27〜29日、東京ビッグサイト)において、有機半導体コロイドインクと静電スプレー成膜(ESC:Electro...

TI DLP事業部シニアバイスプレジデント兼ジェネラルマネージャーのKent Novak氏  Texas Instruments(以下、TI)は、投影型表示デバイスシステムである「DLP(Digital Light Pr...

 東芝と東京大学は2016年2月1日、コンピュータのキャッシュメモリとして使用できる高速性能を備えながら、SRAMに比べ消費電力を10分の1以下に抑えた容量4Mビット級のスピン注入磁化反転方式の磁気抵抗メモリ(以下、ST...

 リコーは、2016年1月27〜29日に東京ビッグサイトで開催された「国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」(以下、ナノテク展)で、エレクトロクロミック技術や電子調光サングラス、電子アートガラスなどを展示した。  展示の...

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