EVG、「EVG40 D2W」発表—300mm全ダイ100％を計測、最大15倍。全体最大2800カ所を約4分で計測／2層同時計測対応

EVG40 D2Wは、D2W接合におけるオーバーレイ測定を高精度かつ高速に行う専用機である。ハードウェアとソフトウェアの機能を強化し、300mmウエハー上にある全てのダイに対して高精度のオーバーレイ測定を可能にしたという。ダイとベースウエハー双方のアライメントターゲットを1回の測定で2層同時に計測することでスループットを向上させた。ステージを新設計とし、光源も安定した照度レベルを維持できるよう改良したとされる。